[发明专利]记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶无效
| 申请号： | 200810083440.2 | 申请日： | 2006-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN101260484A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 田内裕基;中井淳一;藤井秀夫;井土带刀 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C22C5/06 | 分类号： | C22C5/06;G11B7/243 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于光学信息记录介质的记录膜以及一种光学信息记录介质，所述记录膜具有优异生产率并且也具有优异耐久性(记录保持性)，本发明包括如下：(1)在光学信息记录介质中使用的记录膜，其热导率为0.8W/Kcm或更小，对波长为0.3μm～1.0μm的光的光吸收率为15％或更高，熔融温度为300～800℃，(2)光学信息记录介质，其中记录膜包括如上所述的记录膜，以及(3)用于形成所述记录膜的溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 光学 信息 介质 以及 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其用于形成在光学信息记录介质中使用的记录膜，所述记录膜包括含10～60at％Bi的Ag合金。
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