[发明专利]薄膜沉积装置和薄膜沉积方法

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积装置和薄膜沉积方法，所述薄膜沉积装置中等距、平行、间隔交替放置激励电极板和接地电极板；将基板卡固于所述激励电极板和接地电极板的两侧表面；在各个激励电极板和接地电极板之间放置需要进行双面沉积薄膜的基板；向所述反应室中引入反应气体，并将反应气体激发为等离子体，在所述基板表面沉积薄膜。本发明能够对大面积基板进行单面和双面的批量沉积，能够大幅度提高薄膜沉积的效率和产能，并降低交叉污染。

主权项

1、一种薄膜沉积装置，所述装置包括金属上横梁、下横梁和与所述上横梁、下横梁连接的金属侧壁，其特征在于：所述上横梁和下横梁之间具有第一电极板和第二电极板，各所述第一电极板和第二电极板彼此电绝缘且等距、平行、间隔交替排列，在所述各个第一电极板和第二电极板之间的上横梁和下横梁上设置凹槽，用于放置需要双面沉积薄膜的基板。