[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 200810085238.3 | 申请日: | 2008-03-10 |
公开(公告)号: | CN101345241A | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
发明(设计)人: | 小山英寿;加茂宣卓 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L27/085;H01L23/522 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种3维结构的半导体装置,其能够在既避免制造工序的复杂化又高精度地把握在多个半导体层中分别形成的半导体元件的位置关系的同时来进行制造。准备作为透明衬底的SiC衬底(2),在该SiC衬底(2)中形成布线(30、32)、晶体管(10)之后,在其上使GaN层(6)外延生长,接着,在GaN层(6)中形成布线(18、32)。以与布线(18、32)电连接的方式形成晶体管(20)。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,具备:第1半导体层;第1半导体元件,形成在上述第1半导体层中;第2半导体层,以与上述第1半导体元件重叠的方式层叠在上述第1半导体层上,由透明半导体材料构成;第2半导体元件,形成在上述第2半导体层中;以及布线,在上述第2半导体层内延伸并电连接上述第1、2半导体元件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的