[发明专利]绝缘栅型半导体装置无效

专利信息
申请号: 200810085496.1 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101271899A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 吉村充弘 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种绝缘栅型半导体装置。在将检测主动作部的动作的传感部集成于同一芯片的MOSFET中,传感部的电流分布不均匀区域的面积比电流分布均匀的区域面积大,故存在传感部中接通阻抗增加,而得不到与元件比对应的电流比的问题。本发明中,在传感部的外周设置分离区域。设置分离区域的深度,该深度可抑制在传感部的周端部产生的电流分布不均匀区域的扩散,由此,可在传感部中抑制电流分布不均匀区域带来的影响。由于可使整个传感部的电流分布更加均匀,故可以使传感部的接通阻抗接近设计值。由此,可得到与元件比对应的、与设计值相同的电流比,提高电流检测的精度。
搜索关键词: 绝缘 半导体 装置
【主权项】:
1.一种绝缘栅型半导体装置,其特征在于,具有:一导电型半导体基板,设置在该半导体基板之上的一导电型半导体层,设置在该半导体层表面上的第一动作部,设置在所述半导体层表面,面积比所述第一动作部小的第二动作部,设置在所述第一动作部上的反导电型第一沟道区域和第一晶体管,设置在所述第二动作部上的反导电型第二沟道区域和第二晶体管,设置在所述第二动作部的周围的分离区域。
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