[发明专利]显影静电潜像用调色剂、及成像装置和处理盒有效
| 申请号： | 200810085497.6 | 申请日： | 2008-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN101271290A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 长友庸泰;渡边真弘;内野仓理;小岛智之 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G03G9/08 | 分类号： | G03G9/08;G03G9/087;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及调色剂、成像装置和处理盒，该调色剂包含：包含着色剂和粘合剂树脂的母体微粒材料；和外部添加剂，其中该外部添加剂包含0.03到2数量％的平均初级粒径为80到小于150nm的颗粒、50到95数量％的平均初级粒径为5nm至小于15nm的颗粒、和5到40数量％的平均初级粒径为15到小于40nm的颗粒，并且平均初级粒径为80到小于150nm的颗粒包含10到30数量％的平均初级粒径不小于200nm的颗粒，并且从30加热至250℃时具有不大于3.00％的重量下降率。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 静电 潜像用 调色 成像 装置 处理 | ||
【主权项】：
1.显影静电潜像用调色剂，该调色剂包含：包含着色剂和粘合剂树脂的母体微粒材料；和外部添加剂，其中该外部添加剂包含0.03到2数量％的平均初级粒径不小于80且小于150nm的颗粒、50到95数量％的平均初级粒径不小于5nm且小于15nm的颗粒、和5到40数量％的平均初级粒径不小于15且小于40nm的颗粒，并且其中平均初级粒径不小于80且小于150nm的颗粒包含10到30数量％的平均初级粒径不小于200nm的颗粒，并且在从30℃加热至250℃时具有不大于3.00％的重量下降率。
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