[发明专利]用以制备聚光片的单体组成物及其应用有效

专利信息
申请号: 200810085542.8 申请日: 2008-03-17
公开(公告)号: CN101538346A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 李光荣;胡文玮;曾明辉 申请(专利权)人: 迎辉科技股份有限公司
主分类号: C08F222/12 分类号: C08F222/12;C08F222/24;C08F2/50;G02B1/04;B32B27/04
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种用以制备聚光片的单体组成物及其应用,该单体组成物包含一第一单体与一第二单体,且该两单体的重量比值介于1/9~9;该第二单体含有压克力官能基但不含卤素,且其折射率值大于1.45而粘度小于100cps;该第一单体的含量占该单体组成物的10wt%~90wt%,并具有如说明书中所述的结构限制。本发明单体组成物不但为该第一单体提供一新用途,且可制出具有高折射率、高辉度,以及高耐候性的聚光片。本发明更提供以上述组成物制备聚光片的方法,以及一包含有一底材与一通过该方法制出而设置于该底材上的增亮层的聚光片。
搜索关键词: 用以 制备 聚光 单体 组成 及其 应用
【主权项】:
1.一种单体组成物,包含:一第一单体与一第二单体,且该两单体的重量比值介于1/9~9;其特征在于:该第二单体含有压克力官能基但不含卤素,且其折射率值大于1.45而粘度小于100cps;该第一单体的含量占该单体组成物的10wt%~90wt%,且其结构式为[A]:R1为O或S;R2为(C2H4O)n的双价基团,n为0~10的整数;R3为H或CH3
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