[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、液晶显示元件用间隔体及其制造方法有效
| 申请号： | 200810086878.6 | 申请日： | 2008-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101271270A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 一户大吾;杉龙司 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/028 | 分类号： | G03F7/028;G03F7/004;G02F1/1339;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 含有使选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少1种和在1个分子中含有至少1个羟基的不饱和化合物的共聚物与ω－(甲基)丙烯酰氧基烷基异氰酸酯反应反应得到的聚合物，以及选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少1种和(a3)具有环氧乙烷基或氧杂环丁基的不饱和化合物的共聚物的放射线敏感性树脂组合物。本发明提供高灵敏度的即使1000J/m2以下的曝光量也得到充分的间隔体形状，可以形成弹性回复性、摩擦耐性、与透明基板的粘合性、耐热性等优异，并且显影性优异，在得到的图案表面上无凹凸状的表面粗糙的液晶显示元件用间隔体的放射线敏感性树脂组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 敏感性 树脂 组合 液晶显示 元件 间隔 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：[A1]使选自(a1)不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少1种和(a2)在1个分子中含有至少1个羟基的不饱和化合物的共聚物与下式(1)所示的含有异氰酸酯基的不饱和化合物反应得到的聚合物，以及[A2]选自(a1)不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少1种和(a3)具有环氧乙烷基或氧杂环丁基的不饱和化合物的共聚物，![]()
式中，R1为氢原子或甲基、n为1～12的整数。
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