[发明专利]金属抛光液和抛光方法无效
| 申请号： | 200810087355.3 | 申请日： | 2008-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN101275057A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 山田彻;菊池信;稻叶正;松野孝洋;富贺敬充;高桥和敬 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18;C09G1/02;C09K3/14;B24B29/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种金属抛光液，其在半导体器件的制造过程中用于铜或铜合金的导体膜的化学机械抛光，所述金属抛光液包含：(1)由式(I)表示的氨基酸衍生物；和(2)表面活性剂，其中在所述式(I)中，R1表示含1至4个碳原子的烷基，并且R2表示含1至4个碳原子的亚烷基。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属抛光液，其在半导体器件的制造过程中用于铜或铜合金的导体膜的化学机械抛光，所述金属抛光液包含：(1)由式(I)表示的氨基酸衍生物；和(2)表面活性剂，![]()
其中，在所述式(I)中，R1表示含1至4个碳原子的烷基，并且R2表示含1至4个碳原子的亚烷基。
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