[发明专利]用于形成掩模层图案的方法和系统

摘要

本发明涉及一种用于形成掩模层图案的方法和系统。目前描述的实施例采用例如蜡印技术的印刷工艺，以便形成例如印刷电路的掩模层图案(比如阻焊剂层)。实质上可保持显影阻焊剂和曝光工艺中所有的其它常规工艺。根据目前描述的实施例，各印刷电路将具有匹配均匀和非均匀偏斜的独特图案。在一种形式中，图案包括其间具有规定间隔的单一蜡滴，用以使得该工艺对于当前的工业实践是明晰的。此外，单一的滴可既用于大区域又可用于小区域，而没有任何显影时间的差异。在至少一种形式中，间隔中的蜡模和阻焊剂在显影期间被除去。

主权项

1.一种用于在印刷电路上的紫外线可固化材料层内形成图案以便暴露所述印刷电路的选定部分的方法，所述方法包括：确定待应用于所述层的掩模的掩模图案；基于所述层上的所述掩模图案形成所述掩模；将所述层和所述掩模曝露于紫外光；和显影所述层中的图案，使得在所述显影期间除去所述掩模和对应的在下面的材料，以便暴露所述印刷电路的选定部分。