[发明专利]单晶硅太阳能电池的制造方法及单晶硅太阳能电池有效

专利信息
申请号: 200810090977.1 申请日: 2008-04-08
公开(公告)号: CN101286537A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 伊藤厚雄;秋山昌次;川合信;田中好一;飞坂优二;久保田芳宏 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/068;H01L31/036
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 吴小瑛;刘春生
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光封闭型单晶硅太阳能电池,其以结晶性高的单晶硅作为薄膜的光变换层。一种单晶硅太阳能电池的制造方法,包含:将氢离子或稀有气体离子注入单晶硅基板的工序;于金属基板上形成透明绝缘性层的工序;于上述离子注入面和上述透明绝缘性层表面的至少其中一方,进行表面活化处理的工序;将此两者贴合的工序;机械性剥离上述单晶硅基板以作成单晶硅层的工序;于上述单晶硅层的上述剥离面形成多个第二导电型的扩散区域,并使上述单晶硅层的上述剥离面存在多个第一导电型区域和多个第二导电型区域的工序;于上述单晶硅层的上述多个第一、第二导电型区域上各自形成多个个别电极的工序;形成各集电电极的工序;以及形成透明保护膜的工序。
搜索关键词: 单晶硅 太阳能电池 制造 方法
【主权项】:
1.一种单晶硅太阳能电池的制造方法,是用以制造出至少层积有金属基板、作为光变换层的单晶硅层、以及透明保护膜,并以上述透明保护膜侧作为受光面的单晶硅太阳能电池的方法,其特征在于,至少包含:准备金属基板与第一导电型的单晶硅基板的工序;将氢离子或稀有气体离子的至少其中一种,注入上述单晶硅基板,来形成离子注入层的工序;在上述金属基板上形成透明绝缘性层的工序;于上述单晶硅基板的离子注入面与上述金属基板上的透明绝缘性层表面的至少其中一方,进行表面活化处理的工序;将上述单晶硅基板的离子注入面与上述金属基板上的透明绝缘性层表面贴合的工序;对上述离子注入层施予冲击,机械性剥离上述单晶硅基板,来作成单晶硅层的工序;在上述单晶硅层的上述剥离面侧,形成多个与上述第一导电型相异的导电型即第二导电型的扩散区域,至少在面方向形成多个pn结,并作成在上述单晶硅层的上述剥离面,存在多个第一导电型区域与多个第二导电型区域的工序;在上述单晶硅层的上述多个第一导电型区域上,分别形成多个第一个别电极,而在上述多个第二导电型区域上,分别形成多个第二个别电极的工序;形成用以连结上述多个第一个别电极的第一集电电极与用以连结上述多个第二个别电极的第二集电电极的工序;以及形成用以覆盖上述多个第一导电型区域与多个第二导电型区域的透明保护膜的工序。
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