[发明专利]为浸没光刻提供流体的装置和方法有效
| 申请号： | 200810092257.9 | 申请日： | 2004-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN101430508A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | A·K·T·普恩;L·W·F·霍 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 钱亚卓 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的实施例是针对控制流体流量和压力以便为浸没光刻提供稳定条件的系统和方法。在浸没光刻过程期间，向透镜(22)和基片(16)之间的一空间(34)提供一流体。流体被供给到所说空间，并通过一个与所说空间流体连通的一个多孔元件(51)从所说空间回收流体。把多孔元件中的压力保持在多孔元件的起泡点以下，就能消除在流体回收期间由空气与流体相混合所产生的噪音。在一个实施例中，所说的方法包括：通过一个多孔元件经由一回收流体线路从所说空间抽吸流体；在从所说空间抽吸流体期间，把多孔元件中的流体压力保持在多孔元件的起泡点以下。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 光刻 提供 流体 装置 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种装置，包括：光学投射系统，该光学投射系统具有一最终光学元件，该光学投射系统用于把一图像投射到一工件上；台，当图像被投射到工件上时，该台用于支撑着邻近光学投射系统的所说工件；喷嘴，用于向最终光学元件和工件之间的间隔中提供一浸没流体；其中，所说喷嘴具有：一内部腔室，用于把浸没流体保持在所说间隔中；一外部腔室，用于回收那些流出内部腔室的浸没流体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810092257.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
