[发明专利]相位差补偿元件及其制造方法无效
| 申请号： | 200810092610.3 | 申请日： | 2008-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN101290368A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 金谷元隆;秋谷修二 | 申请（专利权）人： | 富士能株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种相位差补偿元件及其制造方法。将预期的相位差补偿层的一半的前半层(21a)分别在相同条件下在基板(7A)和基板(7a)同时成膜。成膜在基板(7A、7a)的各前半层(21a)的物性相等，若在入射光线的方位角有关的相位延迟的发生分布特性发生偏差，则其偏差在两者中也相同。在将基板(7A、7a)重合进行一体化来制造1片相位差补偿元件时，使基板的一方相对另一方旋转90°后用粘接剂(26)进行接合。从而折射率不同的薄膜交替层叠后的相位差补偿层的补偿作用得到改善。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 补偿 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种相位差补偿元件，在透明的基板上具备折射率互不相同的至少2种薄膜层叠后的多层结构的相位差补偿层，并且使通过该相位差补偿层的光线发生对应于入射角的负的相位延迟，其特征在于，在各基板的一面通过层叠上述至少2种薄膜来形成具有上述相位差补偿层的大致一半的膜厚度的多层膜，具备与入射的光线的方位角有关的相位延迟的发生分布特性表示同一倾向的第1元件和第2元件，将这些第1元件和第2元件相互重合以使上述发生分布特性相互正交。
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