[发明专利]用于成像磁体的改进式匀场有效
| 申请号： | 200810093332.3 | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101290344A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | M·J·M·克勒伊普 | 申请（专利权）人： | 西门子磁体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/38 | 分类号： | G01R33/38;G01R33/387 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢江;刘春元 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明涉及用于成像磁体的改进式匀场。一种用于在磁共振成像(MRI)系统中产生具有增大的最大径向直径的成像区域的装置，包括具有关于轴(A－A)对称布置的主磁体线圈(32)的螺线管磁体装置(30)以及匀场线圈组。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 磁体 改进 式匀场 | ||
【主权项】：
1.一种用于在磁共振成像(MRI)系统中产生基本环形成像区域的装置，包括：螺线管磁体装置(30)，包含关于轴(A-A)对称布置的主磁体线圈(32)；其特征在于，设置匀场装置(42)，使得在匀场装置不工作的情况下MRI系统提供具有第一最大径向(r)直径的第一成像区域(12)，并在匀场装置在正向方向上工作的情况下提供具有基本环形形状和具有大于所述第一最大径向(r)直径的第二最大径向(r)直径的第二成像区域(14)，使得在所述第二成像区域内的磁场均匀性通过所述匀场装置工作而得到改进，虽然所述第二成像区域的中心(18)处的场均匀性由于所述匀场装置工作而退化。
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