[发明专利]基底传送装置和用在该基底传送装置中的基底引导单元有效

专利信息
申请号: 200810093868.5 申请日: 2008-04-30
公开(公告)号: CN101306756A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 扈顺奎 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: B65G13/00 分类号: B65G13/00;B65G39/18
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 代理人: 陈桂香;武玉琴
地址: 韩国忠*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种基底传送装置,包括多个成排布置的轴和安装在各个所述轴上以随所述轴一起旋转的传送辊。引导单元被设置成这样:当基底通过所述传送辊的旋转而传送时,所述引导单元防止基底在侧向上摇动。所述引导单元包括:内环,它形成有让所述轴插入其中的通孔;外环,它形成有让所述内环插入其中的通孔;以及轴承,它设置在所述内环和所述外环之间,从而允许所述内环和所述外环独立地旋转。所述外环包括在侧向上从所述外环的外周面突出的环形引导件。所述外环的外周面与基底的底部边缘接触从而支撑基底,并且所述引导件的侧面与基底的侧部接触从而防止基底在侧向上运动。所述内环随所述轴一起运动,并且所述外环通过与基底的摩擦力而旋转。
搜索关键词: 基底 传送 装置 中的 引导 单元
【主权项】:
1.一种基底传送装置,包括:多个成排布置的可旋转的轴;与所述轴固定结合从而随所述轴一起旋转的传送辊;以及引导单元,它被设置成用于引导由所述传送辊传送的基底的线性运动,所述引导单元包括外环,所述外环具有与基底底部边缘接触的外周面和从所述外周面向外突出并用于与基底侧部接触的引导件。
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