[发明专利]清洗装置、光刻设备和光刻设备清洗方法有效
| 申请号： | 200810094978.3 | 申请日： | 2008-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101299133A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 安东尼尔斯·马丁内斯·考莱利斯·派特斯·德琼;马克·凯尔特·斯坦温哥;布克·詹森;雷蒙德·杰拉尔德·玛丽乌斯·比尔恩;克耐利斯·提杰门·霍尔柯德;汉斯·詹森;彼德·弗朗西斯克斯·沃顿;约翰内斯·威尔河姆斯·杰克布斯·莱昂纳德斯·崔杰布斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B3/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种具有配置用于清洗表面的兆声换能器的浸没式光刻投影设备以及采用兆声波通过液体清洗浸没式光刻投影设备的表面的方法。在液体中产生液流，期望为径向液流。还公开了一种用于清洗光刻投影设备的部件的表面的清洗装置。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洗浸没式光刻投影设备的设备，包括：兆声换能器，所述兆声换能器被配置成清洗浸没式光刻设备的表面；液体供给系统，所述液体供给系统被构建和设置成将液体供给到所述兆声换能器和待清洗的表面之间；以及清洗液出口，所述清洗液出口被配置成适应清洗流体流出。
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