[发明专利]光学单元、成像装置以及该光学单元的光学元件无效
| 申请号： | 200810095111.X | 申请日： | 2008-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101276177A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 黄浩炫 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/00 | 分类号： | G03G15/00;G03G15/04;B41J2/47;G02B26/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光学单元，包括该光学单元的成像装置以及该光学单元的光学元件。包括具有第一结合面和第二结合面的光学元件，在所述的第一结合面和第二结合面上施加有当在固化光中曝光时可固化的粘合剂，并且所述第一结合面和第二结合面具有不同的固化光透射率；以及通过粘合剂与光学元件相联结的安装部件。当在固化光中曝光时，该粘合剂被固化。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 单元 成像 装置 以及 元件 | ||
【主权项】：
1、一种成像装置，包括：光学单元，包括：光学元件，其具有第一结合面和第二结合面，在所述第一结合面和第二结合面上施加有粘合剂，该粘合剂当在固化光中曝光时被固化，并且所述第一结合面和第二结合面具有不同的固化光透射率，以及通过粘合剂与所述光学元件相结合的安装部件；感光介质，所述感光介质具有通过光学单元曝光的表面，用以形成与图像信息相对应的静电潜像；显影单元，使用显影剂对所述静电潜像进行显影；以及转印单元，用以将显影后的静电潜像转印到打印介质上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社，未经三星电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810095111.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
