[发明专利]无氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物及用其清洁微电子基板的方法无效
| 申请号： | 200810095960.5 | 申请日： | 2008-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101452226A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 稻冈诚二;威廉·R·格米尔 | 申请（专利权）人： | 马林克罗特贝克公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及无氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物及用其清洁微电子基板的方法。无氟的有机溶剂基的微电子清洁制剂，其包括：(a)至少一种“黄色”或“褐色”的α-羟基羰基共轭物，其是α-羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡聚或多聚共轭物，(b)至少一种游离胺，和(c)至少一种有机溶剂或者至少一种有机溶剂和水。该制剂还可以包含其它任选的成分，包括(d)至少一种无金属离子的碱，其量足以使最终组合物的pH为7或更高，优选pH为约9.5至约10.8，和一种或多种(e)多羟基醇，(f)金属螯合剂，和(g)表面活性剂。该组合物用于清洁微电子设备，而没有任何明显的金属腐蚀，且与ILDs兼容。 | ||
| 搜索关键词： | 氟化物 光致抗蚀剂 剥离 残余物 清洁 组合 微电子 方法 | ||
【主权项】：
1. 无氟化物的微电子清洁组合物，其包括：(a)至少一种“褐色”或“黄色”的α-羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡聚或多聚共轭物，(b)至少一种胺，和(c)至少一种有机的可与水混溶的有机溶剂或者至少一种可与水混溶的有机溶剂和水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于马林克罗特贝克公司，未经马林克罗特贝克公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810095960.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：铁铬钴变形永磁合金材料的冷加工
- 下一篇：铁铬钴永磁合金材料的锻造工艺
