[发明专利]光刻设备和传感器校准方法有效
| 申请号： | 200810096275.4 | 申请日： | 2008-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101303535A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | 恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕斯克;艾米尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森;斯蒂芬·格特鲁德·玛丽·亨德瑞克斯;埃瑞克·鲁埃洛夫·鲁普斯卓;雅克布·威尔埃姆·文克;洛德·安东尼斯·安萨丽娜·玛丽安·比伦斯;劳德威杰克·亚历山大·席杰文阿斯;汤姆·范祖特芬 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种用于校准辅助传感器系统的方法以及一种光刻设备。所述辅助传感器系统测量光栅相对于参考物的位置，所述光栅形成编码器测量系统的一部分。所述编码器测量系统适用于测量光刻设备的衬底台的位置，并且还包括安装到衬底台上的传感器。所述方法包括：激励光栅以沿着所述辅助传感器系统的至少一个测量方向运动；在所述运动过程中，从所述传感器系统获得辅助传感器系统的输出信号；以及基于在所述运动过程中获得的输出信号调整所述辅助传感器系统的参数，以由此校准所述辅助传感器系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 传感器 校准 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于校准辅助传感器系统的方法，所述辅助传感器系统适用于测量光栅相对于参考物的位置，所述光栅形成用于测量光刻设备的衬底台的位置的编码器测量系统的一部分，所述编码器测量系统还包括安装到衬底台上的传感器，所述方法包括步骤：激励光栅以沿着所述辅助传感器系统的至少一个测量方向运动；在所述运动过程中，从所述辅助传感器系统获得辅助传感器系统输出信号；以及基于在所述运动过程中获得的输出信号调整所述辅助传感器系统的参数，以由此校准所述辅助传感器系统。
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