[发明专利]制造光学元件的方法和光学元件有效
| 申请号： | 200810098680.X | 申请日： | 2008-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101324676A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 田中博幸;山田雅之;小谷佳范 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供制造具有优良防反射特性的光学元件的方法，其中在低温下能够形成具有防反射功能的凹凸结构。该方法包括：通过使用含有至少含铝的金属醇盐的涂覆液在光学基材上形成膜，将该膜浸入含水液体中，将已经浸入过含水液体中的膜烘烤，和将已经烘烤过的膜用温水进行处理以形成具有微细凹凸结构的含铝膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 光学 元件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造光学元件的方法，该方法包括：通过使用含有至少含铝的金属醇盐的涂覆液在光学基材上形成膜；将该膜浸入含水液体中；将已经浸入过含水液体中的膜烘烤；和将已经烘烤过的膜用温水进行处理以形成具有凹凸结构的含铝膜。
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