[发明专利]研磨清洁剂、其制备方法及使用其进行抛光的方法有效
| 申请号： | 200810099735.9 | 申请日： | 2008-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN101328390A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 宮坂四志男 | 申请（专利权）人： | 株式会社不二机贩 |
| 主分类号： | C09G1/16 | 分类号： | C09G1/16;C09G1/02;B24B57/02;B24C11/00 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁兴龙;王维玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种研磨清洁剂，其可用于对工件表面抛光以形成镜面的抛光工艺、可抑制静电产生以及抑制污物附着到工件上、可降低粉碎率，而且当所述研磨清洁剂在废弃时环境负担小。上述研磨清洁剂包含弹性材料和研磨粒，其整体上的粒径在88～1,190μm之间，所述弹性材料含有作为基本组分的可溶性氮物质，所述可溶性氮物质从魔芋块茎得到并含有作为基本组分的甘露聚糖，所述弹性材料含有10～30％的水；所述研磨粒的粒度在#220以下，含量为所述弹性材料的1～30wt％，其负载于所述弹性材料表面和/或埋设于所述弹性材料中。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 清洁剂 制备 方法 使用 进行 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种研磨清洁剂，其包含：弹性材料，其含有作为基本组分的可溶性氮物质，所述可溶性氮物质从魔芋块茎淀粉得到并含有作为基本组分的甘露聚糖，所述弹性材料的水含量为10～30％；以及研磨粒，其粒度为#220以下，含量为所述弹性材料的1～30wt％，其负载于所述弹性材料表面和/或埋设于所述弹性材料中，其中所述研磨清洁剂整体上的粒径在88～1,190μm之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社不二机贩，未经株式会社不二机贩许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810099735.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：平开窗用可调式限位撑
- 下一篇：自加压可旋转牙周探针
