[发明专利]等离子体生成装置和使用该装置的工件处理装置

摘要

本发明提供等离子体生成装置和使用该装置的工件处理装置。所述等离子体生成装置在等离子体生成喷嘴(31)的前端安装有适配器(38)，把所述点状吹出口变换成长形的吹出口(387)，而且还设置有罩构件(93)，覆盖多个等离子体生成喷嘴(31)，在该罩构件(93)和工件之间形成窄小的空间，使从吹出口吹出并碰到工件后被弹回的等离子体，再次被推回，滞留在所述空间内。因此，可以对大面积的工件进行均匀的等离子体照射，并且通过所述空间抑制等离子体冷却，使等离子体存在比较长的时间(消失的比例变小)，可以提高照射效率。

主权项

1.一种等离子体生成装置，其特征在于包括：等离子体生成喷嘴，吹出等离子体；以及罩构件，在所述等离子体生成喷嘴的吹出口周围，形成比该等离子体生成喷嘴的前端面更宽的连续面。