[发明专利]一种电子工业用氧化锆复合窑具及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810102225.2 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101244944A 公开(公告)日: 2008-08-20
发明(设计)人: 田维;欧明;姜知水 申请(专利权)人: 田维;欧明;姜知水
主分类号: C04B35/66 分类号: C04B35/66;B32B9/00;B32B37/10;B32B38/16;B32B38/06
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 代理人: 江崇玉
地址: 100840北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种电子工业用氧化锆复合窑具及其制造方法,所述的氧化锆复合窑具是在刚玉氧化铝流延膜片或刚玉莫来石流延膜片的上下层叠电熔稳定氧化锆流延膜片,然后一体化压制,所述的窑具表面可以压制网纹,压制后在100~300℃下烘干干燥,再经1500~1700℃烧制1~3小时,即可制成氧化锆复合窑具。本发明的氧化锆复合窑具重量小,制作过程能耗少,不易粉化、分层,可靠性高,可广泛应用于独石电熔器、圆片电熔器、软磁铁氧体、热敏电阻等产品制造领域。
搜索关键词: 一种 电子工业 氧化锆 复合 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种电子工业用氧化锆复合窑具,其特征在于:所述的氧化锆复合窑具是在刚玉氧化铝流延膜片或刚玉莫来石流延膜片的上下层叠电熔稳定氧化锆流延膜片,然后一体化压制并高温烧制而成。
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