[发明专利]一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法无效
| 申请号： | 200810102683.6 | 申请日： | 2008-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101246229A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 周倩;李立峰 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法，属于光栅制作技术领域。加工制作凹面光栅基底；加工制作凸面母光栅基底；在凸面母光栅基底的工作面上旋涂感光材料；采用全息法曝光得到凸面光刻胶掩模光栅；显影，得到凸面光刻胶掩模光栅，即为光刻胶母光栅。对光刻胶母光栅进行光栅的复制；或对显影后得到的光刻胶凸面光栅进行离子束刻蚀，复制；制作出与此凸面母光栅相对应的凹面光栅。本发明避免了直接在凹面基底上进行离子束刻蚀的难题，在保证良好的成像质量的前提下，可以实现对最终产品凹面光栅槽型的精确控制。同时，凸面母光栅可以大量复制制作子代凹面光栅，非常适合于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 凸面 基底 直接 制作 光刻 光栅 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法，其特征在于，该方法步骤如下：(1)加工制作凹面光栅基底；(2)加工制作凸面母光栅基底：所述凸面母光栅基底的工作面面型与步骤(1)中的凹面光栅基底的工作面面型相一致；所述凸面基底的功能面为平面、球面或非球面；凸面基底的工作面和功能面都是光学面，做抛光处理；所述制作凸面基底的材料对曝光所用的光波长是透明的；(3)在步骤(2)所得凸面母光栅基底的工作面上旋涂感光材料，得到感光材料层(140)；(4)采用全息法曝光得到凸面光刻胶掩模光栅；(5)对步骤(4)中曝光后的感光材料层进行显影，得到凸面光刻胶掩模光栅，即为光刻胶母光栅。
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