[发明专利]彩膜基板的制造方法有效
| 申请号： | 200810103434.9 | 申请日： | 2008-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101551545A | 公开（公告）日： | 2009-10-07 |
| 发明（设计）人： | 石均 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00;G02B5/23 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种彩膜基板的制造方法，包括用模具掩盖待涂布颜料的位置，并在模具未掩盖的基板上形成胶状聚合物层；再进行第一次热处理；再涂布液态颜料；再进行第二次热处理；最后进行清洗处理。通过本发明实施例可以降低成本并简化工艺流程。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：步骤11、用模具掩盖待涂布颜料的位置，并在模具未掩盖的基板上形成胶状聚合物层；步骤12、对完成步骤11的基板进行第一次热处理；步骤13、在完成步骤12的基板上涂布液态颜料；步骤14、对完成步骤13的基板进行第二次热处理；步骤15、对完成步骤14的基板进行清洗处理，完成一种颜色树脂层的制备。
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