[发明专利]用于相变存储器的Si-Te-Sb系列相变薄膜材料无效
申请号: | 200810103803.4 | 申请日: | 2008-04-11 |
公开(公告)号: | CN101257090A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 韩晓东;成岩;王珂;张泽;宋志棠;刘波;张挺;封松林 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;G11C11/56;G11C16/02;G11B7/243;C22C12/00 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘萍 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于相变存储器的Si-Te-Sb系列相变薄膜材料属于微电子技术领域。目前Ge2Te5Sb2材料的结晶温度较低(约为165度)面临着数据丢失的危险。本发明提供的一种用于相变存储器的硅-碲-锑存储材料,组成通式为SiaTebSb100-(a+b),其中20≤a≤60,20≤b<48。该材料具有相对较高的结晶温度、较好的热稳定性以及更强的数据保持能力,同时还具有均匀的晶体相结构和纳米级的晶粒尺寸,在改善了疲劳特性的同时又具有较好的可逆相变能力。 | ||
搜索关键词: | 用于 相变 存储器 si te sb 系列 薄膜 材料 | ||
【主权项】:
1、一种用于相变存储器的Si-Te-Sb系列相变薄膜材料,其特征在于所述的存储材料为硅-碲-锑的混合物,组成通式为SiaTebSb100-(a+b),其中20≤a≤60,20≤b<48。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810103803.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:持久工具对象的方法和装置
- 下一篇:废气处理系统