[发明专利]一种石英晶体的生长方法有效
申请号: | 200810105496.3 | 申请日: | 2008-04-29 |
公开(公告)号: | CN101311368A | 公开(公告)日: | 2008-11-26 |
发明(设计)人: | 华大辰;孙志文;王晓刚;李法荟;尹利君;张绍锋;王晓东;张璇;王忠;何庭秋 | 申请(专利权)人: | 烁光特晶科技有限公司 |
主分类号: | C30B29/18 | 分类号: | C30B29/18;C30B7/08 |
代理公司: | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 尹振启 |
地址: | 100018*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种石英晶体的生长方法,包括步骤:1)对原晶坯料进行切割以获得片状籽晶并清洗籽晶:其中,籽晶的切割方向为:沿x方向或Z方向、或沿Z-Y之间为任意角度的方向;2)将籽晶水平放置,并在籽晶上面相继放置金属或有机材料的薄膜和挡板,且将三者固定在一起;3)将固定好的籽晶连同挡板一同放入高压釜内的碱溶液中,保持籽晶的水平状态进行石英的单面生长。本发明提出的通过遮挡的方式进行单面石英的生长方法,与背景技术双面生长石英的方法比较,不仅能生长出质量更高的完整光学单晶,而且能够在同样的生长时间和生长空间的情况下,比背景技术中效率提高了一倍。 | ||
搜索关键词: | 一种 石英 晶体 生长 方法 | ||
【主权项】:
1、一种石英晶体的生长方法,其特征在于,包括以下步骤:1)对原晶坯料进行切割以获得片状籽晶并预处理籽晶:其中,籽晶的切割方向为:沿x方向或Z方向、或沿Z-Y之间为任意角度的方向;切割后将籽晶浸泡在HF酸或NH4F溶液中10-30分钟,之后再用清洗液进行清洗;2)将籽晶水平放置,在籽晶上面放置金属或有机材料的薄膜,薄膜上方用挡板遮挡,且将三者固定在一起;挡板和薄膜的材料为不影响晶体质量的金属材料或有机材料;挡板和薄膜的外形尺寸不小于要长成的石英晶体的外形尺寸;3)将固定好的籽晶连同挡板一同放入高压釜内的碱溶液中,保持籽晶的水平状态,高压釜内地碱溶液浓度为:0.6mol/L-1.5mol/L;生长压力为:120Mpa-150Mpa;生长温度:330℃-380℃,温差:15℃-30℃。
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