[发明专利]超薄硅基粒子探测器及其制备方法无效
申请号: | 200810105938.4 | 申请日: | 2008-05-06 |
公开(公告)号: | CN101286536A | 公开(公告)日: | 2008-10-15 |
发明(设计)人: | 李科佳;王金延;田大宇;张录;张太平;金玉丰 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L31/115 | 分类号: | H01L31/115;H01L31/18 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人: | 余长江 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种超薄硅基粒子探测器及其制备方法。本发明探测器包括硅基片,硅基片上的探测窗口以及硅基片和探测窗口之外的介质层;所述探测窗口包括P区,N区以及夹在两者之间的硅层;所述P区周围设有保护环,保护环和P区不相接触;P区上方还设有基质层形成的缓冲台阶;N区优选通过TMAH腐蚀法形成,其外形呈倒圆台状,侧面和底面的夹角为54.74°;P区和N区表层均设有铝层。本发明还公开了所述探测器的制备方法。本发明探测器可很好地作为粒子鉴别的ΔE探测器应用于空间探测,核物理,医学检测和环境监测等领域。 | ||
搜索关键词: | 超薄 粒子 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种超薄硅基粒子探测器,包括硅基片,所述硅基片上的探测窗口以及硅基片和探测窗口之外的介质层,所述探测窗口包括P区,N区以及夹在两者之间的硅层,其特征在于,所述P区周围设有保护环,所述保护环和所述P区不相接触;所述P区上方设有基质层形成的缓冲台阶;所述P区和所述N区表层均设有铝层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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