[发明专利]超薄硅基粒子探测器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810105938.4 申请日: 2008-05-06
公开(公告)号: CN101286536A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 李科佳;王金延;田大宇;张录;张太平;金玉丰 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L31/115 分类号: H01L31/115;H01L31/18
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所 代理人: 余长江
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种超薄硅基粒子探测器及其制备方法。本发明探测器包括硅基片,硅基片上的探测窗口以及硅基片和探测窗口之外的介质层;所述探测窗口包括P区,N区以及夹在两者之间的硅层;所述P区周围设有保护环,保护环和P区不相接触;P区上方还设有基质层形成的缓冲台阶;N区优选通过TMAH腐蚀法形成,其外形呈倒圆台状,侧面和底面的夹角为54.74°;P区和N区表层均设有铝层。本发明还公开了所述探测器的制备方法。本发明探测器可很好地作为粒子鉴别的ΔE探测器应用于空间探测,核物理,医学检测和环境监测等领域。
搜索关键词: 超薄 粒子 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种超薄硅基粒子探测器,包括硅基片,所述硅基片上的探测窗口以及硅基片和探测窗口之外的介质层,所述探测窗口包括P区,N区以及夹在两者之间的硅层,其特征在于,所述P区周围设有保护环,所述保护环和所述P区不相接触;所述P区上方设有基质层形成的缓冲台阶;所述P区和所述N区表层均设有铝层。
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