[发明专利]具有编码器型位置传感器系统的光刻设备有效

专利信息
申请号: 200810109166.1 申请日: 2008-05-23
公开(公告)号: CN101359182A 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: 皮特·保罗·斯汀贾尔特;威尔赫尔姆斯·约瑟夫斯·鲍克斯;艾米爱尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森;埃瑞克·罗埃劳夫·鲁普斯卓;恩格尔伯塔斯·安东尼尔斯·弗朗西斯克斯·范德帕斯克;鲁德·安东尼尔斯·卡萨丽娜·玛丽亚·比伦斯;埃尔伯塔斯·亚得里亚内斯·史密特斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种光刻设备,所述光刻设备包括编码器型传感器系统,所述编码器型传感器系统配置用于测量光刻设备的衬底台相对于参考结构的位置。所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标,而所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标的凹陷。
搜索关键词: 具有 编码器 位置 传感器 系统 光刻 设备
【主权项】:
1.一种光刻设备,所述光刻设备包括:照射系统,所述照射系统被配置用于调节辐射束;支撑件,所述支撑件被构造用于保持图案形成装置,所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束,以形成图案化的辐射束;衬底台,所述衬底台被构造用于保持衬底;投影系统,所述投影系统被配置用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上;以及编码器型传感器系统,所述编码器型传感器系统被配置用于测量衬底台相对于参考结构的位置,所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标,且所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标的凹陷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810109166.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top