[发明专利]用于化学气相沉积的金属前体溶液

摘要

本发明描述了用于化学气相沉积的金属前体溶液，描述了包含前体液体溶液的金属源，其用于包括原子层沉积的化学气相沉积方法，以在基底上形成保形的含金属薄膜。更具体地，该金属源前体液体溶液由以下物质组成(i)至少一种金属络合物，其选自：β－二酮化物、β－酮亚胺化物、β－二亚胺化物、烷基金属、金属羰基、烷基金属羰基、芳基金属、芳基金属羰基、环戊二烯基金属、环戊二烯基金属异氰化物、环戊二烯基金属氰、环戊二烯基金属羰基、金属醇化物、金属醚醇化物、和金属酰胺，其中配体可以是与金属原子配位的单齿的、二齿的和多齿的，金属选自2到14族的元素，以及(ii)选自包括直链酰胺和环酰胺的有机酰胺的溶剂，以用于这种含金属源的前体。

主权项

1.一种金属源前体溶液，其具有用于半导体设备结构的制造中的化学气相沉积或原子层沉积的用途，所述的金属源前体溶液基本上由以下组分组成：(i)至少一种包括金属的金属配位络合物，该金属与至少一种配体配位连接呈稳定的络合物；以及，(ii)用于所述金属配位络合物的有机酰胺溶剂。