[发明专利]CCD成像设备相对光谱响应特性的标定方法及系统有效
| 申请号： | 200810114326.1 | 申请日： | 2008-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN101294867A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 符泰然;杨臧健;程晓舫 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J3/28;G01J3/30 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戚传江 |
| 地址： | 100084北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种CCD成像设备相对光谱响应特性的标定方法，包括：A.以已知光谱辐射分布的光源为测量物体，利用待标定的CCD成像设备对测量物体成像，获取图像并分析得到测量值；B.通过调整光源的热力学温度和/或采用滤色片，改变进入CCD成像设备的光谱辐射通量；C.根据已知的CCD成像设备辐射传输数学物理方程，构造描述测量值与相对光谱响应之间对应关系的数学物理方程组；D.以不同光谱辐射通量下CCD成像设备的测量值为已知量，求解数学物理方程组，以标定CCD成像设备的相对光谱响应特性。本发明还公开了一种CCD成像设备相对光谱响应特性的标定系统。其实现的标定方法简单有效，且可避免引入仪器的测量传递误差。 | ||
| 搜索关键词： | ccd 成像 设备 相对 光谱 响应 特性 标定 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种CCD成像设备相对光谱响应特性的标定方法，其特征在于，包括：A、以已知光谱辐射分布的光源为测量物体，利用待标定的CCD成像设备对所述测量物体成像，获取图像并分析得到测量值；B、通过调整所述光源的热力学温度和/或采用滤色片，改变进入所述CCD成像设备的光谱辐射通量；C、根据已知的CCD成像设备辐射传输数学物理方程，构造描述所述测量值与相对光谱响应之间对应关系的数学物理方程组；D、以不同的所述光谱辐射通量下所述CCD成像设备的测量值为已知量，求解所述数学物理方程组，以标定所述CCD成像设备的相对光谱响应特性。
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