[发明专利]氨基二乙酸插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810114882.9 申请日: 2008-06-13
公开(公告)号: CN101289220A 公开(公告)日: 2008-10-22
发明(设计)人: 李殿卿;王丽静;徐向宇;林彦军 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C01G1/00 分类号: C01G1/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 何俊玲
地址: 100029北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种氨基二乙酸插层结构选择性红外吸收材料,简写为IDAs-LDHs,其分子式为:(M2+)1-x(M3+)x(OH)2(A2-)a(Bn-)b·mH2O。本发明还涉及该氨基二乙酸插层结构选择性红外吸收材料的制备方法,以水滑石LDHs为前体,采用离子交换法将氨基乙酸类有机物插入到LDHs层间,组装得到晶相结构良好、性能优异的IDAs-LDHs。该IDAs-LDHs材料对红外线各波段范围的吸收比LDHs前体增加45-79%以上,比滑石粉在7-25μm增加达20%,在10-14μm增加达到105%以上,具有优良的红外吸收能力,是一种良好的红外吸收材料。
搜索关键词: 氨基 乙酸 结构 选择性 红外 吸收 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种氨基二乙酸插层结构选择性红外吸收材料,简写为:IDAs-LDHs,其为超分子结构,晶体结构为类水滑石材料的晶体结构,其化学式为:(M2+)1-x(M3+)x(OH)2(A2-)a(Bn-)b·mH2O其中M2+是Zn2+、Mg2+、Ni2+、Cu2+、Fe2+、Co2+、Ca2+、Mn2+中的任何一种或两种。M3+是Al3+、Fe3+、Cr3+、V3+、Co3+、Ga3+、Ti3+中的任何一种;A代表氨基二乙酸类化合物,简写为IDAs,A是亚氨基二乙酸(IDA)、N-(2-乙基)亚氨基二乙酸(HIDA)、甲基亚氨二乙酸(MIDA)中的任何一种;Bn-为荷电量为n的无机阴离子,IDAs-LDHs化学式中Bn-可以不存在或为CO3 2-、NO3 -、Cl-、Br-、I-、OH-、H2PO4 -中的任何一种、二种或三种;0.1<X<0.8;a、b分别为A2-和Bn-的数量,2a+n×b=X;m为结晶水数量,0.01<m<4。
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