[发明专利]制备平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 200810115182.1 申请日: 2008-06-18
公开(公告)号: CN101609743A 公开(公告)日: 2009-12-23
发明(设计)人: 张兴旺;高云;屈盛;陈诺夫 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01F41/14 分类号: H01F41/14;H01F10/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明一种制备平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:利用双亲嵌段共聚物PS-P4VP在甲苯中自组装成反胶束,然后将金属盐FeCl3和H2PtCl6加入所述反胶束溶液中,形成金属盐负载的反胶束;步骤2:利用旋涂法在硅衬底上获得反胶束阵列,并通过氧等离子体和氢等离子体刻蚀而得到单分散性良好的FePt纳米颗粒阵列;步骤3:用磁控溅射法在FePt纳米颗粒阵列上覆盖一层SiO2保护层;步骤4:保护气氛下对样品进行高温退火,完成平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的制作。
搜索关键词: 制备 平行 取向 fept 磁性 纳米 复合 薄膜 方法
【主权项】:
1、一种制备平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:利用双亲嵌段共聚物PS-P4VP在甲苯中自组装成反胶束,然后将金属盐FeCl3和H2PtCl6加入所述反胶束溶液中,形成金属盐负载的反胶束;步骤2:利用旋涂法在硅衬底上获得反胶束阵列,并通过氧等离子体和氢等离子体刻蚀而得到单分散性良好的FePt纳米颗粒阵列;步骤3:用磁控溅射法在FePt纳米颗粒阵列上覆盖一层SiO2保护层;步骤4:保护气氛下对样品进行高温退火,完成平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的制作。
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