[发明专利]制备平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的方法无效
申请号: | 200810115182.1 | 申请日: | 2008-06-18 |
公开(公告)号: | CN101609743A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 张兴旺;高云;屈盛;陈诺夫 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01F41/14 | 分类号: | H01F41/14;H01F10/12 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明一种制备平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:利用双亲嵌段共聚物PS-P4VP在甲苯中自组装成反胶束,然后将金属盐FeCl3和H2PtCl6加入所述反胶束溶液中,形成金属盐负载的反胶束;步骤2:利用旋涂法在硅衬底上获得反胶束阵列,并通过氧等离子体和氢等离子体刻蚀而得到单分散性良好的FePt纳米颗粒阵列;步骤3:用磁控溅射法在FePt纳米颗粒阵列上覆盖一层SiO2保护层;步骤4:保护气氛下对样品进行高温退火,完成平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的制作。 | ||
搜索关键词: | 制备 平行 取向 fept 磁性 纳米 复合 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
1、一种制备平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:利用双亲嵌段共聚物PS-P4VP在甲苯中自组装成反胶束,然后将金属盐FeCl3和H2PtCl6加入所述反胶束溶液中,形成金属盐负载的反胶束;步骤2:利用旋涂法在硅衬底上获得反胶束阵列,并通过氧等离子体和氢等离子体刻蚀而得到单分散性良好的FePt纳米颗粒阵列;步骤3:用磁控溅射法在FePt纳米颗粒阵列上覆盖一层SiO2保护层;步骤4:保护气氛下对样品进行高温退火,完成平行取向FePt磁性纳米复合薄膜的制作。
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