[发明专利]等离子体处理设备有效
| 申请号： | 200810115629.5 | 申请日： | 2008-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN101296553A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 姚立强 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 魏晓波;逯长明 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体处理设备，包括喷头电极，气体通过贯穿所述喷头电极的进气孔流入等离子体处理设备的反应腔室中；所述喷头电极朝向所述反应腔室的表面可拆装地设置衬板；所述衬板与所述喷头电极大体相平行，并具有与所述进气孔相对应的通孔，以便所述气体通过所述通孔进入所述反应腔室中。所述衬板所要求的技术难度和成本都较低，但其隔离效果却可靠而稳定；当所述衬板受到的腐蚀达到预定的程度时可以方便地将其更换，喷头电极的使用寿命因此可以得到显著地延长，节省了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
1、一种等离子体处理设备，包括喷头电极，气体通过贯穿所述喷头电极的进气孔流入所述等离子体处理设备的反应腔室中；其特征在于，所述喷头电极朝向所述反应腔室的表面可拆装地设置衬板；所述衬板与所述喷头电极大体相平行，并具有与所述进气孔相对应的通孔，以便自所述喷头电极的进气孔流出的气体通过所述通孔进入反应腔室中。
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