[发明专利]微透镜阵列的制备方法有效
| 申请号： | 200810115642.0 | 申请日： | 2008-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN101303421A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | 顾开宇 | 申请（专利权）人： | 北京超多维科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;B05D7/24;B05D3/06;B29D11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100738北京市东城区东长安街1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微透镜阵列的制备方法，包括如下步骤：步骤一：在模具上涂布UV固化胶；步骤二：将所述涂布了UV固化胶的模具放置在阻聚环境下进行第一次紫外光照射；步骤三：在无阻聚环境中进行第二次紫外光照射；步骤四：剥离。在所述步骤二和所述步骤三之间还可以包括覆盖基底材料的步骤。所述UV固化胶可以为氧阻聚型UV固化胶。所述模具可以为柱状微凸行阵列模具或柱状微凹行阵列模具；本工艺采用二次紫外固化方法可以很好的解决。UV固化胶在制作柱状微凹透镜阵列时所发生的收缩问题，而且不受柱状微透镜阵列拱高大小的限制。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种微透镜阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：在模具上涂布UV固化胶；步骤二：将所述涂布了UV固化胶的模具放置在阻聚环境下进行第一次紫外光照射；步骤三：在无阻聚环境中进行第二次紫外光照射；步骤四：剥离。
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