[发明专利]氮化镓基多波段探测器及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200810116416.4 申请日: 2008-07-09
公开(公告)号: CN101626025A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 刘文宝;孙苋;赵德刚;刘宗顺;张书明;朱建军;杨辉 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L21/84
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种氮化镓基多波段探测器,包括:一衬底;一短波段探测单元,包括:一第一宽带隙材料层生长在衬底上面一侧的三分之一处;一对第一背靠背肖特基电极生长在第一宽带隙材料层上;一中波段探测单元,包括:一第二宽带隙材料层生长在衬底上面中间的三分之一处;一第二中间带隙材料层生长在第二宽带隙材料层上;一对第二背靠背肖特基电极生长在第二中间带隙材料层上;一长波段探测单元,包括:一第三宽带隙材料层生长在衬底上面另一侧的三分之一处;一第三中间带隙材料层生长在第三宽带隙材料层上;一第三窄带隙材料层生长在第三中间带隙材料层上;一对第三背靠背肖特基电极生长在第三窄带隙材料层上。
搜索关键词: 氮化 基多 波段 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
1、一种氮化镓基多波段探测器,其特征在于,包括:一衬底;一短波段探测单元,包括:一第一宽带隙材料层,该第一宽带隙材料层外延生长在衬底上面一侧的三分之一处;一对第一背靠背肖特基电极,该对第一背靠背肖特基电极生长在第一宽带隙材料层上;一中波段探测单元,包括:一第二宽带隙材料层,该第二宽带隙材料层外延生长在衬底上面中间的三分之一处,该第二宽带隙材料层与第一宽带隙材料层之间有一第一间隙;一第二中间带隙材料层,该第二中间带隙材料层外延生长在第二宽带隙材料层上;一对第二背靠背肖特基电极,该对第二背靠背肖特基电极生长在第二中间带隙材料层上;一长波段探测单元,包括:一第三宽带隙材料层,该第三宽带隙材料层外延生长在衬底上面另一侧的三分之一处,该第三宽带隙材料层与第二宽带隙材料层之间有一第二间隙;一第三中间带隙材料层,该第三中间带隙材料层生长在第三宽带隙材料层上;一第三窄带隙材料层,该第三窄带隙材料层生长在第三中间带隙材料层上;一对第三背靠背肖特基电极,该对第三背靠背肖特基电极生长在第三窄带隙材料层上。
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