[发明专利]等离子体处理设备及其基片载板

摘要

本发明公开了一种基片载板，其顶部具有开口向上的第一安置槽，其底部设有开口向下的第二安置槽以及定位装置；基片装载入所述第二安置槽后，所述定位装置将其限制于所述第二安置槽中。所述基片载板可以由相互独立的上层板体和下层板体组成。本发明还提供一种包括上述基片载板的等离子体处理设备。可以在上述第一安置槽以及第二安置槽中各安放一个基片同时加工，等离子体处理设备的产能因此得到显著提高。由于用作接地电极时基片载板的有效面积与并无明显改变，反应腔室中等离子体的能量不受影响，基片加工质量较高。分体式的基片载板可以在上层板体和下层板体中同时装片或者卸片，基片的装卸载效率可以得到显著提高。

主权项

1、一种基片载板，用于等离子体处理设备，其顶部具有开口向上且用于装载基片的第一安置槽，其特征在于，所述基片载板的底部设有定位装置以及开口向下且用于装载基片的第二安置槽；所述基片装载入所述第二安置槽后，所述定位装置将其限制于所述第二安置槽中。