[发明专利]一种气体分配装置及应用该分配装置的等离子体处理设备

摘要

本发明公开了一种气体分配装置，其包括支撑板、阻流板和喷淋头电极，所述支撑板上设置有进气通道，喷淋头电极上开设有排气通道。支撑板的背面设置有第一支撑台以及支撑板导流凸台，导流凸台之间的部分以及第一支撑台与导流凸台之间的部分形成导流沟槽；阻流板的正面设置第二支撑台，以将支撑板与阻流板叠置在一起，同时使来自进气通道的气体能够借助于导流沟槽而传递和扩散；以及在阻流板上设置阻流板通孔，以便将来自导流沟槽的气体传递到喷淋头电极的上方，并借助于所述排气通道而将所述气体排出到反应腔室内。本发明还公开一种等离子体处理设备。本发明具有能够均匀地分配气体，且结构简单、成本低、并便于加工、方便维护和不易损坏等优点。

主权项

1.一种气体分配装置，用于将气体均匀地分配至反应腔室内，包括自上而下依次层叠设置的支撑板、阻流板和喷淋头电极，所述支撑板上设置有进气通道，用于将气体引入到所述气体分配装置内；所述喷淋头电极上开设有排气通道；其特征在于：所述支撑板的背面设置有第一支撑台以及支撑板导流凸台，相邻支撑板导流凸台之间的部分以及第一支撑台与支撑板导流凸台之间的部分形成导流沟槽；对应于所述第一支撑台，在所述阻流板的正面设置第二支撑台，借助于第一支撑台与第二支撑台的相互支撑而将所述支撑板与所述阻流板叠置在一起，同时使来自所述进气通道的气体能够借助于所述导流沟槽而传递和扩散；以及至少在所述阻流板上的与所述导流沟槽对应的位置处设置阻流板通孔，所述阻流板通孔贯通所述阻流板，以便将来自所述导流沟槽的气体传递到所述喷淋头电极的上方，并借助于所述排气通道而将所述气体排出到反应腔室内。