[发明专利]多功能小型薄膜沉积设备

摘要

一种多功能小型薄膜沉积设备，该薄膜沉积设备包括：化学气相沉积装置，其利用气态物质在基片表面进行化学反应，生成固态沉积物；溅射沉积装置，利用离子束轰击靶材，使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜；脉冲激光沉积装置，其将高强度的激光聚焦后轰击到靶材上，在轰击位置产生局部瞬时高温，将材料蒸发出来，沉积到基片上。本发明整套设备成本低廉，可以方便的在CVD、溅射以及脉冲激光沉积之间转换制备样品或者对样品进行后处理，应用范围广；而且构造简单，体积小，易搭建，方便维护。

主权项

1.一种多功能小型薄膜沉积设备，其特征在于，该薄膜沉积设备包括：化学气相沉积装置，其利用气态物质在基片表面进行化学反应，生成固态沉积物；溅射沉积装置，利用离子束轰击靶材，使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜；脉冲激光沉积装置，其将高强度的激光聚焦后轰击到靶材上，在轰击位置产生局部瞬时高温，将材料蒸发出来，沉积到基片上。