[发明专利]一种非真空太阳光谱选择性吸收膜层及其制备方法

摘要

一种非真空太阳光谱选择性吸收膜层及其制备方法，该吸收膜层是在不锈钢或铜的基底上由里向外依次设有钛铝膜层、钛铝氮膜层、钛铝氧氮膜层和钛铝氧膜层；各膜层采用多弧离子镀进行制备，靶材采用钛和铝的原子比为50∶50的钛铝合金靶；通过控制多弧离子镀气氛中的氩气、氮气和氧气的流量来控制各膜层中的氮和/或氧的成份。该方法包括：(1)选取基底材料，并清洗；(2)在多靶复合镀膜机的真空溅射室中烘烤基底材料；(3)对基底材料表面进行氩离子轰击；(4)对基底材料进行镀膜。(5)进行退火处理。该收膜层在太阳能光谱范围(0.3～2.5微米)具有较高的吸收率α，在红外区域(2～50微米)有很低的发射率ε，具有耐高温氧化特性，满足太阳能高温利用的要求。

主权项

1、一种非真空太阳光谱选择性吸收膜层，其特征在于，该吸收膜层是在不锈钢或铜的基底上由里向外依次设有厚度为40～200纳米的钛铝膜层、厚度为200～300纳米的钛铝氮膜层、厚度为1200～1700纳米的钛铝氧氮膜层和厚度为60～120纳米的钛铝氧膜层；所述的各膜层采用多弧离子镀进行制备，靶材采用钛和铝的原子比为50∶50的钛铝合金靶；通过控制多弧离子镀气氛中的氩气、氮气和氧气的流量来控制各膜层中的氮和/或氧的成份。