[发明专利]用于低碳钢纳米压入试样的抛光液无效
| 申请号： | 200810120590.6 | 申请日： | 2008-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101343741A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 文东辉;陶黎;洪滔 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C23F3/04 | 分类号： | C23F3/04 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人： | 王兵;王利强 |
| 地址： | 310014*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种用于低碳钢纳米压入试样的抛光液，所述抛光液按体积百分比由下述组分组成：SiO2浓度为20～35％的硅溶胶35～50％，胺碱0.07～1.1％，螯合剂0.07～0.35％，表面活性剂0.35～1.4％，氧化剂0.35～1.4％，立方氮化硼CBN浓度为0.1～0.2％的水溶液20～35％，助溶剂8～10％，以及去离子水10～20％。本发明提供一种抛光效率高、抛光质量好且对试样无损害的用于低碳钢纳米压入试样的抛光液。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 低碳钢 纳米 试样 抛光 | ||
【主权项】：
1、一种用于低碳钢纳米压入试样的抛光液，其特征在于：所述抛光液按体积百分比由下述组分组成：SiO2浓度为20～35％的硅溶胶35～50％，胺碱0.07～1.1％，螯合剂0.07～0.35％，表面活性剂0.35～1.4％，氧化剂0.35～1.4％，立方氮化硼CBN浓度为0.1～0.2％的水溶液20～35％，助溶剂8～10％，以及去离子水10～20％。
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