[发明专利]用于光刻机的浸没自适应密封控制装置

摘要

本发明公开了一种用于光刻机的浸没自适应密封控制装置。浸没自适应密封控制装置是在投影透镜组和衬底之间设置的装置，由密封构件和自适应密封件组成。当液体由于衬底牵拉形成对自适应密封件冲击时，该结构能够吸收高速运动液体形成的冲击，并将其转化为增强密封的动力；反之，当衬底牵拉液体远离自适应密封件之时，该结构内部预存的液体将跟随进入缝隙流场，避免由于边界液体的缺失引起的气泡卷吸，同时，内部预存液体的减少将降低自适应密封件的密封动力，泄漏的液体由于受到阻碍的减少而跟随衬底回流到缝隙流场内部。浸没自适应密封控制装置的液体输送方式采用负压回收、注液端自由流动，避免了注液与回收压力不协调导致的流场波动。

主权项

1.一种用于光刻机的浸没自适应密封控制装置，在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的浸没自适应密封控制装置(2)；其特征在于，所述的浸没自适应密封控制装置(2)：包括密封构件(2A)和自适应密封件(2B)；其中：1)密封构件(2A)：中心开有通孔的密封构件(2A)垂直于衬底(3)由中心向外依次开有：连续环形圆柱结构的气体释放腔(6A)，上方开有垂直衬底(3)的气体释放孔(6B)；弧度为40～170°环形圆柱腔体的注液腔(5B)和其另一侧开有弧度为40～170°环形圆柱双排孔阵列的回收排孔(5C)，8个等分且弧度为20～44°的密封腔(11)；密封构件(2A)平行于衬底(3)由上到下依次开有：注液通道(5A)和回收通道(5D)，向内各自连通注液腔(5B)和回收排孔(5C)，向外各自连接注液管道(4A)和回收管道(4B)；8个中心对称且均匀分布的密封供液通道(5E)，向内连通各自的密封腔(11)，向外连接密封供液管道(4C)；注液通道(5A)孔径为密封供液通道(5E)孔径的5～20倍；2)自适应密封结构(2B)：设置有8个中心对称且均匀分布环状的密封块(9A)，宽度及上表面的弧度与密封腔(11)相同；密封块(9A)上下表面与衬底(3)相平行，密封块上表面(9D)的面积为密封块下表面(9E)面积的4～30倍；密封块(9A)与密封构件(2A)通过弹性件(10)紧固在密封腔(11)的上端面；对于平行衬底(3)的每个密封块(9A)均由内向外开有环状的水平缓冲槽(9C)；垂直衬底(3)的每个密封块上表面(9D)向下开有环状的垂直缓冲槽(9B)，并与水平缓冲槽(9C)相通。