[发明专利]一种半导体芯片的减薄方法有效
申请号: | 200810123541.8 | 申请日: | 2008-06-06 |
公开(公告)号: | CN101308778A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 章文;丁荣峥;吴刚 | 申请(专利权)人: | 无锡中微高科电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/30;H01L21/304 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214028江苏省无锡市新区无锡经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体芯片的减薄方法,具体地说是半导体芯片等器件厚度的减薄工艺,属于集成电路制造技术领域。特征是将半导体器件有图形的面朝下行列拼排;需减薄正面粘附在保护膜上,形成一个正方形或长方形;在正方形或长方形外围放置面积、厚度与半导体器件面积、厚度相当的片状物,再围成一个正方形或长方形,使减薄时中间半导体器件受力均匀;再设置减薄厚度,采用磨削法开始减薄;减薄结束后,已减薄芯片后处理;最后交出满足工艺要求芯片。本发明不需改变现有的减薄设备、工装夹具等;减薄后芯片厚度一致与圆片减薄厚度一致性相当,成品率高;芯片级尺寸减薄后芯片边缘无缺损、无裂纹。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 芯片 方法 | ||
【主权项】:
1、一种半导体芯片的减薄方法,其特征是采用以下工艺步骤:(1)、将芯片有图形的面朝下行列拼排;(2)、芯片需减薄正面粘附在保护膜,形成一个正方形或长方形;(3)、在正方形或长方形外围放置面积、厚度与芯片面积、厚度相当的片状物,再围成一个正方形或长方形,使减薄时中间芯片受力均匀;(4)、设置减薄厚度,采用磨削法开始减薄;通过金刚砂轮和吸附芯片的陶瓷吸盘以相反方向旋转,借助于金刚砂轮将芯片磨削变薄为所需厚度,并由纯水带走磨削下来的硅渣;金刚砂轮转速为700~1200转/分钟,并以20~300μm/分钟速度下降,陶瓷吸盘旋转速度为15~25转/分钟,纯水流量为10L~15L/分钟;(5)、减薄结束,用无尘纤维纸擦拭减薄芯片,直至无尘纤维纸上无明显硅屑,然后将已减薄芯片从保护膜上取下;再将减薄芯片正面朝上,距离微型热风机口下方20~30cm,吹10~15分钟;吹干温度为60-100℃;直至芯片表面水迹完全吹干;(6)、交出满足工艺要求芯片。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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