[发明专利]一种亚波长光栅结构偏振片及其制作方法无效
| 申请号： | 200810123710.8 | 申请日： | 2008-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101290371A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 周云;陈林森;叶燕;周小红;浦东林;申溯;魏国军;解正东 | 申请（专利权）人： | 苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G03F7/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述透明基底和介质光栅之间，设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。通过在透明基底和介质光栅之间增加高折射率介质层，提高了偏振片的TM光的透射效率和消光比。在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。在工艺上，采用纳米压印技术加工制作，制作过程简便易操作，不需要刻蚀工艺，降低了加工成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波长 光栅 结构 偏振 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种亚波长光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述透明基底和介质光栅之间，设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。
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