[发明专利]一种用微弧氧化技术在NiTi合金表面原位生成TiO2氧化膜的方法无效
| 申请号： | 200810124002.6 | 申请日： | 2008-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101294296A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 司松海;司乃潮 | 申请（专利权）人： | 镇江忆诺唯记忆合金有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/34 | 分类号： | C25D11/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212009江苏省镇江市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种用微弧氧化技术在NiTi合金表面原位生成TiO2氧化膜的方法，其特征为：用微弧氧化技术对NiTi合金(其化学成分为：Ni50wt％，Ti50wt％)进行表面改性，在NiTi合金表面原位生成TiO2氧化膜。其微弧氧化工艺参数为：电流密度为5－12A/cm2，电压为250－500V，频率为250－450Hz，电解液温度控制为20℃～60℃，微弧氧化时间为20－70min。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用微弧 氧化 技术 niti 合金 表面 原位 生成 tio sub 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用微弧氧化技术在NiTi合金表面原位生成TiO2氧化膜的方法，其特征为：用微弧氧化技术对NiTi合金(其化学成分为：Ni50wt％，Ti50wt％)进行表面改性，在NiTi合金表面原位生成TiO2氧化膜；其微弧氧化工艺参数为：电流密度为5-12A/cm2，电压250-500V，频率为250-450Hz，电解液温度控制为20℃～60℃，微弧氧化时间为20-70min。
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