[发明专利]真空压力控制系统有效
申请号: | 200810125402.9 | 申请日: | 2008-06-05 |
公开(公告)号: | CN101320275A | 公开(公告)日: | 2008-12-10 |
发明(设计)人: | 渡边雅之;宫原诚;梅泽俊祐 | 申请(专利权)人: | 喜开理株式会社 |
主分类号: | G05D16/16 | 分类号: | G05D16/16;F16K51/02;F16K17/36;F16K37/00;H01L21/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 陆锦华;郇春艳 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种真空压力控制系统,其包括真空室、真空泵、真空开/关阀、真空压力控制装置和伺服阀,真空泵用于从真空室抽吸气体,真空开/关阀用于通过由从作为动力源的空气供应源所供应的驱动空气改变开度来控制真空室中的真空压力,真空压力控制装置用于控制真空开/关阀,伺服阀用于控制真空开/关阀的开度。 | ||
搜索关键词: | 真空 压力 控制系统 | ||
【主权项】:
1.一种真空压力控制系统,其包括:真空容器;真空泵,其用于从所述真空容器中抽吸气体;真空开/关阀,其连接在所述真空容器和所述真空泵之间,并适合于通过由从作为动力源的流体供应源所供应的流体改变开度来控制所述真空容器中的真空压力;真空压力控制装置,其用于控制所述真空开/关阀;以及伺服阀,其用于控制所述真空开/关阀的开度。
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