[发明专利]执行等离子体化学气相沉积的装置和制造光学预制件的方法

摘要

本发明涉及一种用于执行等离子体化学气相沉积的装置，依靠该装置，一层或多层掺杂或未掺杂的氧化硅沉积到细长的中空玻璃衬底管的内部。本发明进一步涉及通过等离子体化学气相沉积来制造光学预制件的方法，其中使掺杂或未掺杂的玻璃成形气体通过细长玻璃衬底管的内部，同时在衬底管的内部建立使得玻璃层的沉积发生的条件。

主权项

1、一种用于执行等离子体化学气相沉积的装置，依靠该装置一层或多层掺杂或未掺杂的氧化硅沉积到细长的中空玻璃衬底管的内部，该装置包括具有基本上圆柱对称地环绕圆柱轴构成的谐振腔的谐振器，衬底管沿着该轴放置，其中所述谐振腔基本上呈具有圆柱形内壁和圆柱形外壁的环形，以及其中所述圆柱形内壁包括沿着环绕所述圆柱轴的圆周的至少一部分延伸的狭缝，微波导延伸进入该谐振腔，从而微波可以经由前述狭缝出射至由圆柱形内壁所围成的腔，其中谐振器包绕着衬底管的至少一部分并可以沿着衬底管的纵轴前后移动，其特征在于通过紧配合使中空的内管对着谐振腔的圆柱形内壁放置，该内管沿着谐振腔长度的至少一部分而沿圆柱轴延伸，并且其对微波透明，该内管具有以至于衬底管能够安置在内管内部的直径。