[发明专利]X射线荧光设备

摘要

本发明提供一种X射线荧光(XRF)设备。该XRF设备使用了分析器晶体(6)以及硅漂移检测器(34)。通过采用该组合，可以减轻背景和重叠峰的问题。

主权项

1.一种X射线荧光设备，包括：样品保持器(30)，用于保持X射线样品；X射线源(2)，用于将X射线引导到样品保持器中的样品上；硅漂移检测器(8)，用于检测作为能量函数的X射线强度；分析器晶体(6，10)，用于将X射线从样品引导到检测器(8)上；处理装置，被设置成提取来自检测器(8)的信号，并且输出处理过的X射线强度；以及用于改变样品、源、分析器晶体以及检测器的构形的装置，以选择测量能量，在该能量处，来自样品的X射线被分析器晶体引导到检测器上；其中，处理装置(36)被设置成输出位于峰能量处的峰的X射线强度，这是通过：测量被测的峰X射线光谱；估计位于峰能量处的布拉格反射背景峰的X射线光谱；以及通过从被测的峰X射线光谱中减去布拉格反射背景峰的估计的X射线光谱而输出峰的校正过的峰的X射线强度，其中，检测器(8)和处理装置(36)被设置成在输出能量附近的窄能量范围内选择X射线，并输出该窄能量范围内的X射线的强度，对于低于1keV的输出能量，其宽度小于0.4keV，对于从1keV到5keV的输出能量，其宽度小于1keV，对于从5keV到10keV的输出能量，其宽度小于2keV，并且对于高于10keV的输出能量，其宽度小于5keV。