[发明专利]光学记录介质、记录/再现设备、和记录/再现方法有效
| 申请号： | 200810128358.7 | 申请日： | 2005-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN101325080A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 黄盛凞;高祯完 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B20/18 | 分类号： | G11B20/18 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭鸿禧;张军 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供光学记录介质、记录/再现设备、和记录/再现方法。一种信息记录介质，其上，当被创建在信息记录介质的预定区域中的用于替换缺陷块的替换块的备用区被扩大或重新分配时，扩大的或重新分配的备用区中的块的缺陷状态信息被改变并且被写在该信息记录介质上。通过管理扩大的或重新分配的备用区中的块的缺陷状态信息，驱动系统的不必要的操作被消除，因此改善了驱动系统的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 再现 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种管理信息存储介质上的缺陷的方法，包括：当与第一缺陷列表项相应的块存在于扩大的或新分配的备用区中时产生第二缺陷列表项，其中，第一缺陷列表项包括指示具有缺陷的块不具有替换该块的相应的替换块的状态信息和指示该块的位置的第一信息，以及第二缺陷列表项包括指示该块是不可用的替换缺陷块的块的状态信息和指示该块的位置的第二信息。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社，未经三星电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810128358.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
