[发明专利]共轭二烯系聚合物及其制造方法和该聚合物组合物有效
| 申请号： | 200810128675.9 | 申请日： | 2008-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101328231A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 大岛真弓 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C08F36/04 | 分类号： | C08F36/04;C08F8/42;C08C19/42;C08L15/00;C08K3/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及共轭二烯系聚合物及其制造方法和该聚合物组合物。共轭二烯系聚合物为具有基于共轭二烯的单体单元和上述式(I)表示的基团的共轭二烯系聚合物，其特征在于，通过凝胶渗透色谱测定得到的分子量分布曲线中至少存在下述峰H、M和L，以分子量分布曲线的总面积为100％，峰H的总峰面积为3～30％，峰M的总峰面积为5～45％，峰L的总峰面积为40～80％，式(I)中，R1和R2各自独立地表示碳原子数1～4的烃基、碳原子数1～4的烃氧基、羟基或含有基于共轭二烯的单体单元的聚合物链，m表示0～10的整数，A1表示不具有活泼氢的极性官能团。 | ||
| 搜索关键词： | 共轭 二烯系 聚合物 及其 制造 方法 组合 | ||
【主权项】：
1.共轭二烯系聚合物，其为具有基于共轭二烯的单体单元和下述式(I)表示的基团的共轭二烯系聚合物，其特征在于，通过凝胶渗透色谱测定得到的分子量分布曲线中至少存在下述峰H、M和L，以分子量分布曲线的总面积为100％，峰H的总峰面积为3～30％，峰M的总峰面积为5～45％，峰L的总峰面积为40～80％，![]()
式(I)中，R1和R2各自独立地表示碳原子数1～4的烃基、碳原子数1～4的烃氧基、羟基或含有基于共轭二烯的单体单元的聚合物链，m表示0～10的整数，A1表示不具有活泼氢的极性官能团，峰H为峰顶的分子量高于峰M的峰顶的分子量的峰，峰M为以峰H的峰顶的分子量为MH，峰顶的分子量为0.6×MH～0.8×MH的峰，峰L为以峰H的峰顶的分子量为MH，峰顶的分子量为0.2×MH～0.4×MH的峰。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社，未经住友化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810128675.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：输电杆塔驱鸟器
- 下一篇：一种光学外差法倏逝波腔衰荡光谱分析装置
