[发明专利]基板的支撑装置有效
申请号: | 200810128964.9 | 申请日: | 2008-06-23 |
公开(公告)号: | CN101307436A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 林明勋;李宗澧;叶守正;林盈宏 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 郭蔚 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种基板的支撑装置,包含:四个第一支撑座支撑基板的第一空白区与第二空白区其中之一,至少一个第二支撑座支撑基板的第一空白区其中之一,一座体设置第一支撑座及第二支撑座,经由第一支撑座与第二支撑座的特定设置,藉此避免基板受损或破片,以及避免在化学气相沉积(CVD)制程中基板的面板区产生色差等问题,更可以直接对应到不同尺寸的面板设计,而不需变更支撑座的位置。 | ||
搜索关键词: | 支撑 装置 | ||
【主权项】:
1、一种基板的支撑装置,用以支撑一基板,其中该基板包含:二个第一侧边与二个第二侧边,所述第一侧边实质上垂直于所述第二侧边,多个第一空白区,与所述第一侧边平行,多个第二空白区,与所述第二侧边平行,以及多个面板区,位于所述第一空白区及所述第二空白区之间,该支撑装置包含:四个第一支撑座,对应并支撑所述第一空白区与所述第二空白区其中之一,所述第一支撑座对最近的该第一侧边的距离实质相等,对最近的该第二侧边的距离实质相等;至少一个第二支撑座,对应并支撑所述第一空白区其中之一,该第二支撑座对所述第一侧边的距离实质相等;及一座体,用以设置所述第一支撑座及该第二支撑座。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的